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半导体检测仪 301 Single Wafer Cleaning System单晶圆清洗系统EVG 301 单晶圆清洗系统
EVG 301 单晶圆清洗系统EVG 301 研发型单晶圆清洗系统EVG301 半自动化单晶片清洗系统该清洗站使用标准的去离子水冲洗以及超音速,毛刷和稀释化学药品作为附加清洗选项来清洗晶片
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EVG 301 单晶圆清洗系统 301 Single Wafer Cleaning System单晶圆清洗系统半导体检测仪
EVG 301 单晶圆清洗系统EVG 301单晶圆清洗系统是一款研发型清洗设备,采用单个清洗站进行晶片清洗。该清洗站采用标准的去离子水冲洗和超声波清洗,同时还可以选择毛刷和稀释化学药品作为附加清洗
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EVG 301 Single Wafer Cleaning System单晶圆清洗系统
EVG301半自动化单晶片清洗系统采用一个清洗站,该清洗站使用标准的去离子水冲洗以及超音速,毛刷和稀释化学药品作为附加清洗选项来清洗晶片。
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301 Single Wafer Cleaning System单晶圆清洗系统EVG半导体检测仪
EVG 301 单晶圆清洗系统EVG 301 单晶圆清洗系统是一种研发型单晶圆清洗系统。EVG301半自动化单晶片清洗系统采用一个清洗站,使用标准的去离子水冲洗以及超音速、毛刷和稀释化学药品作为附加
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EVG 320 自动化单晶圆清洗系统半导体检测仪EVG
EVG 320 Automated Single Wafer Cleaning SystemEVG 320 自动化单晶圆清洗系统自动单晶片清洗系统,可有效去除颗粒EVG 320自动化单晶圆清洗系统
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EVG 320 自动化单晶圆清洗系统半导体检测仪EVG
EVG 320 AutomatedSingleWaferCleaningSystemEVG 320 自动化单晶圆清洗系统自动单晶片清洗系统,能够有效去除颗粒EVG320自动化单晶圆清洗系统可以自动
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320 Automated Single Wafer Cleaning System自动化单晶圆清洗系统半导体检测仪 EVG 320 自动化单晶圆清洗系统
EVG 320 Automated Single Wafer Cleaning SystemEVG 320 自动化单晶圆清洗系统自动单晶片清洗系统,能有效去除颗粒。EVG 320 自动化单晶圆清洗
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EVG 320 Automated Single Wafer Cleaning System自动化单晶圆清洗系统
EVG320自动化单晶圆清洗系统可在处理站之间自动处理晶圆和基板。 机械手处理系统可确保在盒到盒或FOUP到FOUP操作中自动预对准和装载晶圆。
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EVG半导体检测仪EVG 520IS晶圆键合系统
EVG 520IS WaferBondingSystemEVG 520IS晶圆键合系统 单腔或双腔晶圆键合系统,用于小批量生产EVG520IS单腔单元可半自动操作zui大200mm的晶圆,适用于
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半导体晶圆PL光谱测试系统
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